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Área de aplicación
La silicona estructural HM SG490 está destinada al encolado según la técnica VEC (acristalamiento exterior encolado). Su aplicación está sujeta al cumplimiento de los procedimientos oficiales locales vigentes, así como al seguimiento de las especificaciones técnicas VEC.
Está diseñada especialmente para las aplicaciones en el taller del sellado de los muros cortina. La humedad relativa durante la aplicación no debe exceder el 80 %.
Descripción
SG490 es una masilla de silicona acética monocomponente con un módulo alto de elasticidad que desarrolla, con o sin imprimación, una excelente adherencia en soportes como vidrio, aluminio anodizado, acero inoxidable y aluminio lacado.
Presenta una excelente resistencia a los productos habituales de limpieza de fachadas. Resiste a las bases diluidas, a las nieblas salinas y las a exposiciones a corto plazo de todos los disolventes comunes e hidrocarburos (puede causar reblandecimiento o hinchazón).
Caja | CART |
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Color | negro |
Cont. | 310 ML |
Nº art. | 400584 |
- Monocomponente.
- Polimerización rápida.
- Excelente adherencia, con o sin imprimación, definida por los resultados de las pruebas realizadas.
- Gran estabilidad a las radiaciones ultravioletas.
Color | Referencia | Uds./Caja | Caja/Palé |
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Negro brillo | 400584 | 20 unidades | 60 cajas |
- Realización de las juntas: Los acristalamientos exteriores encolados solo deben realizarse tras consultar al Responsable Técnico de tremco illbruck. Los sellados para el VEC se rigen por las normas VEC según los principios y los métodos de cálculo de la guía europea ETAG 002 verificados por tremco illbruck.
- Compatibilidad: La compatibilidad de los accesorios (elespaciador, el perfil, las cuñas, etc.) y de los productos complementarios (la silicona para sellar o del acristalamiento aislante, etc.) deben haberse probado previamente con el producto SG490. Resulta fundamental ponerse en contacto con el Servicio Técnico de tremco illbruck para obtener más información sobre la prueba de compatibilidad antes de iniciar la aplicación.
- Métodos de aplicación: En caso de utilizar la silicona SG490 con bombas, recomendamos el uso de un circuito recubierto de politetrafluoroetileno (PTFE) para limitar la permeabilidad de las paredes al vapor de agua. Las pruebas de autocontrol de la producción (FPC) son necesarias para garantizar la calidad del proceso de fabricación. El seguimiento de este proceso es una de las condiciones necesarias para obtener una validación de tipo PASS VEC de conformidad con la versión 2 de las especificaciones técnicas CSTB 3488.(Consulte la versión 6 de la ficha descriptiva de junio de 2012 para obtener más información). El alisado de la silicona debe realizarse durante el tiempo que esté abierta.
Características | Normas | Valores |
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Sistema de reacción | Acético monocomponente | |
Densidad* | 1,03 | |
Tiempo sin adhesivo 1) | Entre 5 y 10 minutos | |
Velocidad de fijación 1) | Tras 1 día: 3 mm como mínimo. Tras 7 días: 10 mm como mínimo. | |
Dureza Shore A* | EN ISO 868 | Tras 7 días: 20 mm como mínimo |
Resistencia a la ruptura* | EN ISO 8339 | 1,00 MPa |
Tensión de tracción admitida* | ETAG 002 | 0,14 MPa |
Tensión de cizallamiento admitida con una carga permanente* | ETAG 002 | 0,007 MPa |
Módulo secante al 12,5 % de alargamiento K12,5* | EN ISO 8339 | 1,98 MPa |
Alargamiento hasta la rotura* | EN ISO 8339 | 250 % |
Recuperación elástica (tras una extensión al 25 % durante 24 horas) | EN ISO 7389 | > 95 % |
Resistencia a la compresión* | EN ISO 11432 | Al 30 %: 0,65 MPa |
Temperatura de aplicación recomendada | Entre +15 °C y +35 °C | |
Temperatura de funcionamiento | Entre -50 °C y +150 °C | |
Conservación | En un lugar seco a temperaturas comprendidas entre +5 °C y +25 °C. | |
Almacenamiento | En su embalaje original cerrado: 18 meses |
1) a +23 °C y con un 50 % de humedad relativa.
*Valores típicos
Para las temperaturas bajas y elevadas, pueden variar el tiempo y la rapidez de polimerización. Póngase en contacto con nosotros previamente en caso de cambios importantes de temperatura en la aplicación y en el almacenamiento.